C.P.D. measurements on oxidized silicon surfaces

Süli Árpád; Michailovits Lehel: C.P.D. measurements on oxidized silicon surfaces. In: Acta physica et chemica, (18) 1-2. pp. 27-37. (1972)

[thumbnail of phys_chem_018_fasc_001_002_027-037.pdf]
Előnézet
Cikk, tanulmány, mű
phys_chem_018_fasc_001_002_027-037.pdf

Letöltés (824kB) | Előnézet
Mű típusa: Cikk, tanulmány, mű
Befoglaló folyóirat/kiadvány címe: Acta physica et chemica
Dátum: 1972
Kötet: 18
Szám: 1-2
ISSN: 0001-6721
Oldalak: pp. 27-37
Nyelv: angol
Befoglaló mű URL: http://acta.bibl.u-szeged.hu/39329/
Kulcsszavak: Természettudomány, Kémia, Fizika
Megjegyzések: Bibliogr.: 36. p.; Ismertetett mű: A. Šyli-L. Mihajlovič: Izmereniâ C.P.D. na poverhnosti oksidirovannogo kermniâ
Feltöltés dátuma: 2016. okt. 17. 09:26
Utolsó módosítás: 2021. jún. 01. 15:36
URI: http://acta.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/23802
Bővebben:
Tétel nézet Tétel nézet