Gyulai József; Révész P.; Zsoldos Lehel; Vértesi G.; Gyimesi J.: Defects and amorphization in ion-implanted silicon. In: Acta physica et chemica, (20) 3. pp. 259-266. (1974)
Előnézet |
Cikk, tanulmány, mű
phys_chem_020_fasc_003_259-266.pdf Letöltés (1MB) | Előnézet |
| Mű típusa: | Cikk, tanulmány, mű |
|---|---|
| Befoglaló folyóirat/kiadvány címe: | Acta physica et chemica |
| Dátum: | 1974 |
| Kötet: | 20 |
| Szám: | 3 |
| ISSN: | 0001-6721 |
| Oldalak: | pp. 259-266 |
| Nyelv: | angol |
| Befoglaló mű URL: | http://acta.bibl.u-szeged.hu/39337/ |
| Kulcsszavak: | Természettudomány, Kémia, Fizika |
| Megjegyzések: | Bibliogr.: 266. p.; Ismertetett mű: J. D'ûlai-P. Reves-L. Žoldoš-G. Verteši-J. D'imeši: Defekty i amorfizaciâ v ionno legirovammon kremnii |
| Feltöltés dátuma: | 2016. okt. 17. 09:26 |
| Utolsó módosítás: | 2021. jún. 01. 15:11 |
| URI: | http://acta.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/23914 |
 |
Tétel nézet |
