Preparation of photocatalysts by atomic layer deposition

Ballai Gergő; Kedves Zsolt; Pap Zsolt; Sápi András; Kovačič Sebastijan; Kukovecz Ákos; Kónya Zoltán: Preparation of photocatalysts by atomic layer deposition.

[thumbnail of proceedings_of_isaep_2021_089-090.pdf] Cikk, tanulmány, mű
proceedings_of_isaep_2021_089-090.pdf

Letöltés (412kB)

Absztrakt (kivonat)

The use of semiconductor-based photocatalysts (e.g. metal oxides) in sewage water treatment is expected to be of great interest despite its shortcomings [1]. High surface area organic semiconductor-based structures are promising alternatives for the photodegradation of various organic pollutants. In addition, these polymer structures could be great backbones to produce polymer/metal oxide composite photocatalysts by Atomic Layer Deposition (ALD).

Mű típusa: Konferencia vagy workshop anyag
Befoglaló folyóirat/kiadvány címe: Proceedings of the International Symposium on Analytical and Environmental Problems
Dátum: 2021
Kötet: 27
ISBN: 978-963-306-835-9
Oldalak: pp. 89-90
Nyelv: angol
Kiadó: University of Szeged
Kiadás helye: Szeged
Konferencia neve: International Symposium on Analytical and Environmental Problems (27.) (2021) (Szeged)
Befoglaló mű URL: http://acta.bibl.u-szeged.hu/75798/
Kulcsszavak: Környezetkémia
Megjegyzések: Bibliogr.: 90. p. ; ill. ; összefoglalás angol nyelven
Szakterület: 01. Természettudományok
01. Természettudományok > 01.04. Kémiai tudományok
Feltöltés dátuma: 2022. máj. 26. 13:56
Utolsó módosítás: 2022. aug. 08. 15:40
URI: http://acta.bibl.u-szeged.hu/id/eprint/75932
Bővebben:
Tétel nézet Tétel nézet